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298.必输局吗?(1章)

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,“芯片产工艺已经肯定,估计快。”

使光刻机,全球先进193纳米波长光刻机,跟台积电。”

,张京思考,“雕刻,使工具产品质量坏,精密度……靠艺水平高低

代45纳米芯片,设备提高艺,至少够突破60纳米吧。”

京抿口酒,脸色微红。

方式提升芯片精细度,重曝光方式,精细度更高芯片。”

“欸?”曹阳猛,感觉震惊。

技术

技术吗?

方式制造45纳米,甚至更低纳米级别芯片,缺点很明显,”张,“重曝光,技术呈几何指数增长

做微雕刻候,方连续刀,且每比精准。

非常困难重曝光,良品率肯定急剧降,导致本增估计即使台积电,30,20纳米芯片,块芯片售给博米话,许价格高达1000,甚至2000块钱,估计很难承受。

量产,重曝光遇难题,摸索重曝光技术突破,候进量产定。”

唔……

曹阳托巴,陷入思考

其实计算问题——

际给博米芯片90nm,片380块钱,提升1000块钱片45nm,甚至30nm话,价格再进提升,通降维打击,靠芯片碾压苹果建立优势再反向推芯片制造呢?

条路通?

,”张京今兴奋,笑继续,“浸润式技术,光刻机投影物镜透镜与硅片光刻胶间填充高折射率液体。

台积电使光刻方式。

思,4,台积电林本间提浸润技术候,业内此嗤鼻,认技术方式。

浸润式技术研究具体流程技术,摸索。”

曹阳印象

台积电跟其厂拉差距,原因林本间浸润式光刻技术。

项技术,世界微影领域东岛尼康,林本间提浸入式技术候,相尼康IBM众世界级脸。

研究何使X光光刻,因X光比深紫外线波长更短,林本间告诉,其实复杂,深紫光DUV光刻机基础,加点水浸润,通折射角度变化制造精细度更高芯片。

疑告诉

IBM尼康忍受点?

已经投入几十百亿资金,突质疑。

任何项颠覆式新技术传统势力巨阻力。林本坚浸润式光刻,几乎被尼康、佳、IBM等巨头封杀,尼康甚至向台积电施压,求雪藏林本坚。

巨头陨落,辙。柯达数码照相机,柯达却因恐惧数码相机威胁胶片业务,做决定——让别

尼康智商,经济利益消耗殆尽。

尼康仍占据龙头老位置,曹阳知,等台积电45纳米,阿斯麦光刻机市场占将尼康拉马,让巨头陨落。

其实已经隐隐苗头

际虽林本间采浸润式技术帮助台积电60纳米突破,具体做法工艺技术,

石头阶段。

“浸润式技术原理复杂,问题,需间。”张愁闷口酒,难受,“尝试使浸润式技术,明提升60纳米水准应该问题。”

使浸润式技术进芯片制重曝光,良品率保障本应该跟90纳米芯片差

即使明博米45纳米芯片,边购买60纳米。

曹阳肯定此满足,博米芯片设计继续深挖,直保持苹果领先,肯定先引入台积电45纳米芯片。

除非够弯超车。

技术突破,超台积电话,光刻机本身进突破。止,并够独立产光刻机企业,准确独立产193纳米,甚至更短波段光刻机水平。

2006光刻机领域,东岛尼康才光刻机王者阿斯麦Amsl台EUV光刻机2012

,或许

至少曹阳

……

“浸润法改变光折射更短光波吧?”曹阳问

。”张京笑笑,“物理题,折射光波长,等入射光波长除折射率,折射率越折射波长越短。

浸润式光刻技术提升入射介质折射率折射角度分离短波长,够提升芯片精细度。”

,曹阳微微笑,“直接采更短波长光呢?”

京摇摇头,“,因IBM已经研究,X光波深紫外光波长更短,,水介质X光折射效果很差,光达波长,水完全透明遮挡噪影,办法解决。”

浸润光刻技术,干式光刻,将光波长缩短两位数。”曹阳

“哈?!”

京,各位副见

倪光南、刘强本身做芯片,华技术研略知二,且芯片高新领域脏,或缺东西,怎跟芯片打交解。

……

193纳米深紫外光已经极限,深紫外光提升157nm。

果采浸润法,纯净水液,其折射率1.44,因此等效波长便193nm降134nm(193nm/1.14=134nm),分辨率因此提高,工艺节点向45-22nm迈进。

曹阳居使两位数,100纳米波长光源,简直方夜谭。

京愣,笑,“果真光源话,位数纳米级芯片。”

候,带芯片处理性提升飞跃形容。

啊,内连稳定深紫外光短波长光源啊?”倪教授

嗯……

2012ASML收购Cymer顶级光源公司,光波波长短13.5nm极紫外稳定光源才

全世界难题,机遇。

曹阳办法已。

曹阳印象很模糊,毕竟专业20被制裁件,让少关光刻机知识,仅仅知半解,原理思,停留比较理论,具体内容完全

……

母校问果曹阳记错话,其实2021已经主研稳定极紫外光

比AMSL10间。

“哈哈哈,已,具体该怎。”

曹阳笑,再继续话题,等解决方案,再拉联合研,感觉比较

……

再聊儿,众博米很高期望,博米及未机产业景非常

9点左右,众才散席。

曹阳车。

送别张候,曹阳犹豫,“张近台积电跟官司像挺严重啊?”

京愣,脸片愁云。

曹阳际目麻烦官司缠身,张被台积电控告其侵犯知识产权。

设备际目跟台积电使DUV光刻机,差别浸润式技术及制工艺

台积电控告导致张京离际,际进入群龙首,内耗非常严重代,科技研台积电呢?

企业真命途舛,创始直官司缠身,根本法做投入技术

,张京离芯遭遇诸,创始,老团队分崩离析。唐期间借助股东位,玩权力游戏。

果少折腾话,芯片制造水平,应该

啊……”张沮丧苦笑,“跟台积电老恩怨,估计罢休。”

千万,”曹阳赶紧,“际需,给稳定环境比什。”

啊……”张京感叹

办法呢?

打官司方,台积电告侵犯知识产权,其实已经达解,际支付台积电1.75亿元,达10双方专利交换协议,台积电翻脸,今重新提诉讼,告际侵权,让张京倍感焦虑。

台积电恩怨纠葛由已久,主半导体资历脉,让台积电非常忌惮,京掌握台积电产技术,陆创建候,台积电带走批核班底。

基本际,台积电善罢甘休

次台积电诉讼200312月,距离立3

台积电、台积电北公司及WaferTech公司共宣布,间19北加州联邦方法院,公司提项专利权侵害诉讼。

台积电诉状指称,际通方式取台积电商业秘密及侵犯台积电专利,已延揽超100名台积电员工,且求部分其提供台积电商业秘密。

台积电际主管台积电经理其取半导体制程技术资料,已严重侵害公司营业秘密。

次诉讼经间,20052月,台积电与际达解,台积电称它已经专利侵害相关争议问题纠纷达庭外解协议。

按照协议内容,际将向台积电支付约1.75亿元,专利商业秘密诉讼案。

解1,台积电再次际提诉讼,诉讼际违反与台积电达解协议,使段盗公司商业机密。

台积电请求法院判决际立即停止相关侵权赔偿台积电相关损失。

解协议,台积电已经明确双方利益交换及互相专利授权内容,被紧咬放,除部分台积电恩怨外,幕操控,曹阳

半导体,芯片重,很高精尖产品依赖芯片。

太希望芯片崛切代价进打压。

候,2006次诉讼,直持续3间,2009才再次达解。

解协议内容,际将向台积电分期四支付2亿金,并向台积电17.89亿股新股,约占际10月31股本约8%,并授予台积电按照每股1.3港元认购价,认购6.95亿股际股份(予调整)认购权证,使。

股份,台积电将获际已股本合共约10%股份。

京彻底离际,由副邱慈云担任ceo际才稍转。

场战争,给际带打击。

产吃紧,每收益台积电挤压比较限,加赔付官司,让际深陷泥潭拔,导致越越落

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曹阳希望收场,拉张

吗?”曹阳坏笑,“候,该依靠依靠,既海,太明白,官司打?”

被米台积电,打侵权官司,稳输局吗?

字头进入,场官司话,搞希望。

即使京真退切办法保证稳固

“欸?”听曹阳话,张京眼睛亮。

……

者其书:冲浪
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