放松。
黄明哲初四接马知力报告，连忙赶材料研究。
“社长，终。”马知力兴奋边走边。
马知力等满眼血丝、头乱糟糟，知直测试光敏材料规律模型。
“老马劳逸结合，办公室谈吧！”黄明哲向办公室。
“谢社长关，间太兴奋已。”
办公室，场马知力四研究员，其回班。
“坐。”黄明哲坐：“模型计算材效率8.6%左右，材合格率1.7%左右。”
“，社长。”马知力兴奋：“社长，研计算模型太厉害，简直材料研神器。”
“宇宙万物数，什被计算。”黄明哲微笑。
果马知力等，绝嗤鼻，已经相信。
“社长，模型，估计引材料革命。”马知力赞叹。
黄明哲摇摇头：“际精神，模型内部。”
“社长。”
“报告，给任务。”
“社长请吩咐。”马知力连忙拿笔记本。
“研X射线高敏胶。”
“X射线高敏胶?社长研光刻胶吧！”马知力听便知黄明哲打算。
黄明哲点点头：“错，X射线级别光刻胶，提几求，波长3～8纳米间；X射线敏感度足够高，几秒钟内彻底溶解；另外X射线量级别，需高级实快速光分解。”
“社长，果研X射线光刻胶，客户。”马知力提醒。
目市光刻机光源，般分紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV），其先进光刻机，尼德兰阿斯麦公司产极紫外光（EUV），波长13.4纳米。
其实世纪八十代，光刻机业，除极紫外光（EUV）路线，存另路线——X射线光刻机。
什波长10纳米X射线光刻机，被极紫外光（EUV）淘汰?
原因两，效率问题，X射线照射光刻胶光刻速度比较慢；二精确度问题，什波长10纳米X射线，光刻精度差?因掩模做10纳米。
掩模电路图母板，什极紫外光（EUV）精度高，原因紫外光使凸透镜缩掩模光线，知X射线穿透力非常强，凸透镜根本法聚焦。
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X射线光刻机被淘汰。
市X射线光刻机，味客户。
“问题问题。”
“社长客户话……”
黄明哲打断马知力：“知X射线光刻机什被淘汰吗?”
马知力点点头。
“效率问题光刻胶光敏性，果研几秒钟内完光刻X射线光刻胶，效率问题吗?”黄明哲反问。
“嗯?”马知力愣。
确实黄明哲，光刻效率问题其实光刻胶光敏性影响，归根结底材料问题，材料问题恰恰思维社强项?
“至凸透镜法聚焦X射线，什制造聚焦X射线凸透镜，凸透镜材料光敏性，材料改变切。”黄明哲笑提醒。
“啊！怎?”马知力顿瞪眼睛。
其顿呼吸急促，果解决光刻胶凸透镜光敏性，岂相完X射线光刻机缺点弥补。
X射线光刻机先性优势，散性低、光线集、波长短精悍。
“完独立主光刻机系统，按部班走西方老路，永远法超越方。”黄明哲。
问题其实内光刻机业展拦路虎，按照西方路线走，别专利怎绕?
另外光刻机市场非常，全世界芯片制造企业，阿斯麦公司芯片制造企业关系千丝万缕，哪怕造，估计卖。
“社长，马安排材料计算，定拿X射线光刻胶X射线凸透镜。”马知力坚定。
“注休息，身体革命本钱。”黄明哲关。
“谢社长关，定注。”
“老马，另外注保密，东西关系业话语权，马虎。”黄明哲提醒。
“定注。”马知力脸色顿肃。
……
黄明哲随将蔡知叫，吩咐准备相关工，内收购X射线光源制造公司、光镜片制造公司等等光刻机相关企业。
思维社计算机编程研究，本身拥非常强软件实力，毕竟黄明哲独立完初级工智幽灵存。
仿真空间技术、限元逆分析技术，助力光刻机设计。
尽管思维社买阿斯麦公司极紫外光（EUV）光刻机，沪微电低端光刻机。
买台低端光刻机回，使限元逆分析，先完光刻机各系统整合，步步升级改造，内购买零件造，内办法造。
2月16。
思维社另公司悄汕市挂牌立，名字叫神光仪器公司，公司立非常低调。
黄明哲将专门才账户，拨款4亿初期展资金。
材料研究方，尽管规律模型辅助，材料研工容易。
直材料研究，随研究研究员陆陆续续复工，各项工进度正加快。
“老马，员够向蔡经理，让招聘。”
“晚整理，列缺口名单。”马知力黄明哲，佩服极点。
除光敏材料规律模型，黄明哲完弹性材料规律模型、电容材料规律模型。
两规律模型未材料研究，非常应。
弹性材料，电容材料通俗，电储存材料，电池差。
交代，黄明哲便踏校路途。