9月初，孟谦趟霓虹，跟索尼签署份秘密文件，达战术盟协议，两公司将携先干三星，利益冲突候，切先干三星主，索尼跟风集团再竞争。
虽此三星其实已经很难倒塌，毕竟高丽撑，利各方法压压三星展，因孟谦并三星强，未跟米全抗候，三星伙很像初捅霓虹捅华夏。
世，至少，绝让三星华夏影响太深。
次霓虹，除跟索尼谈战术合，孟谦件很重做，跟光刻机关。
米边由英特尔牵头始搞规模EUV光刻机研究已经段间，冒消息让觉代光刻机米...
代光刻机展孟谦确实点，近沪微电边给孟谦传很坏消息，技术搞定。
，孟谦需加快展。
稍微提点关EUV历史，孟谦篇文章：EUV光刻技术1999被际半导体技术展路线图确定代光刻首选技术，味，谁果参与EUV光刻技术研，谁将代芯片竞赛弃权。
确定，孟谦容易找1999际半导体技术展路线图原文，压根句话，连类似话...
相反，按照记载，1999儿关代光刻技术猜四，分别157nm F2激光，电束投射(EPL)，离投射(IPL)及EUVX光，因EUV属软X光，X光研究算领域。
研究全球研究EUV企业机构确实超200，研究157nm F2激光企业机构超300...
且绝部分企业机构方向研，尤其IBM，四方向研。
搞157nm F2激光搞SVG跟尼康，搞EUV搞，投入企业，正英特尔，什近英特尔跳高喊靠EUV打造代光刻机。
代，英特尔率领联盟EUV梯队，二梯队哪呢，投入，二梯队似欧洲，果，二梯队肯定霓虹，因霓虹很早始研究EUV，间略断层，断层几霓虹重点研X光，基础，捡展很快，霓虹EUV研究深，尼康。
尼康世嘲，20掌握EUV关键技术，惜，候基础足撑EUV光刻机展。
话其实错，ASML竞争况搞EUV光刻机搞十，尼康代搞EUV光刻机搞才见鬼。
孟谦什定尼康死原因，孟谦尼康公司！
跟索尼达战术联盟，孟谦马提需求，相机领域进步合。尼康近靠相机翻身知，且曾经尼康确实靠相机撑几。
孟谦绝给尼康机，喊索尼跟佳进步加深相机合研，此孟谦主承担量研费，先砸10亿软妹币，索尼跟佳加跟5亿，研果共享。
其实风集团本身依靠军方技术放正快速提升工艺，镜头等领域水平，次拉索尼跟佳，确实因程度打压尼康。
另外，除打压尼康，风集团独抗英特尔联盟显吃力，孟谦需联盟。
次霓虹，孟谦带关EUV光刻机部分研究资料，拉联盟。
至目标，霓虹EUV领域领头企业，包括三菱，霓虹电气股份限公司，霓虹电报电话公司，东芝等，全球三浸式光刻机产厂佳，虽EUV领域厉害，肯定入局，且积极，帮孟谦“忽悠”企业。
毕竟佳容易跻身全球光刻机梯队，被挤啊。
被挤，佳跟风集团统战线，果候跟风集团搞分裂，等被米弄死吧。
风集团带资料加佳拼老命牵线搭桥，孟谦终功立华霓EUV研盟，除霓虹边十几企业机构，华夏边风集团，沪微电，清华，长光，45等十企业机构。
消息，尼康坐住，间跑霓虹半导体协投诉，搞EUV居带尼康？脑问题？
，根本搭理尼康，联盟风集团跟佳牵头，带怎...
联盟消息候，米边做反应，英特尔办法阻止两合，英特尔高调跳表示EUV领域取巨突破，份公论文，写EUV光刻机三难题，其问题光源。
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光源研究写非常非常难，虽实话，EUV穿透物体散射吸收非常厉害，使光刻机需非常非常强光源，难度巨。连空气吸收EUV，机器内部做真空。
且由光刻精度几纳米，EUV光集度求极高，相拿电照月球光斑超枚硬币。反射求镜长30，相燕京沪做根铁轨伏超1毫米。
英特尔公论文让世明白EUV光刻机难，英特尔取重突破，至什突破，含糊其辞，句机密解释。
结果英特尔公告，华夏突宣布，将KBFF晶体列战略资源，再外口...
孟谦新闻，突莫名兴奋，“谁先搞EUV光刻机吧...”
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