芯片加工厂按部班进，王岸放块石头。
始，王岸买仅仅摊设备，二消化技术。
光刻机，套设备使尼康产gkl107 436纳米波长紫光光源，高压汞灯滤色波长。
套设备几被淘汰。
相比市场更先进248纳米紫光光源光刻机落两代，间相隔代365纳米光源光刻机。
知365纳米248纳米光源，间隔鸿沟。
436纳米紫光光源演进365纳米紫光光源，技术进步，光源高压汞灯。
248纳米紫光光源，技术换代，光源卤素激光光源。
且，王岸记很清楚，1995，193纳米紫光激光光源光刻机技术已经取重突破，今几将投入市场。
知，芯片产核装备光刻机，每次更新换代付代价，至少百亿数量级金，且越往越难。
历史，193纳米紫光光刻机换代，玩死批老牌光刻机厂。
原本全世界产光刻机十三，本四，157纳米光刻机，asml勉强活，其批厂倒闭，半死活。
岛顶尖尼康佳，因方向错误，157纳米干式光刻与asml浸式光刻机竞争落败。
再加asml搞双工台技术，提高芯片产力精度。
让两巨头彻底产高端光刻机，沦售卖低端产品，再力顶尖极紫光光刻机竞争。
9102，全世界高端市场，养活asml。
实，果台积电，intel，三星等芯片巨头输血，硕果仅存asml将被市场浪潮吞，光台积电三星，2016投20亿欧元，砸asml身。
难，真难，定取功，光刻机研究吞金巨兽，义？
肯定。
钱。
光刻机，光刻胶，蚀刻机，封装设备，光凭华芯科技，吃透技术基本，需调全社力量。
清光研究，王岸肚闷气。
刘本清教授激光光源耕耘，1971，参与台紫光干涉激光研制，1980，负责台接近式jl_01光刻机研制。
实受，研究工，受毛头伙指点。
王黯气，光研究投千万，，增加浸式光刻机探讨研究，难？
“王，再重申遍，浸式光刻机虽理论缩投影图，实际操，已经被证明，套技术通，研究浪费钱。”
“刘教授，建议再做探讨，且项技术并证明通，通。”
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刘本伟屑顾。
“王，跟句话实求，浸式光刻技术七八立项，其困难跟，清楚。
明点，精力研究浸式光刻机，精力投紫光激光光源，效果。”
代，普遍识，搞浸式光刻机条绝路。
王岸深吸口气，犟鸭嘴硬科研员太，初员，跟刘本清气，跟气。
犯气牛脾气，捅破，唯解决，德服，哦，，理服。
“超高纯度折射率液体，往往水粒微尘，或者气泡，或者离，加工造巨影响。
再加高纯水浮晶片，目光刻胶分溶进水，造液体介质污染，刘教授，错吧！”
刘本清王岸句话候愣住，什况，懂。
待王岸将两技术难点合盘，刘本清：“王，……？”
王岸装见，背身，继续：“除两问题，实际操，临平台稳定性，校准系统，曝光间等问题，需按每台机器类型次调试……”
刘本清给王岸竖拇指，声牛，资料怎容易找。
“王，既知浸式光刻机缺陷，需继续坚持吗？”
王岸点点头，：“什！刘教授，高纯水介质研跟外合，厌水光刻胶办，，考虑光刻胶再喷绝水薄膜，试，怎知！”
“试很办法！”
“再试，试解决止……”
王岸毫客气，投资，布命令，跟讨价价。
浸式光刻机肯定未方向，且波长越长，通折射，缩微效果越明显。
况且，光刻机波长并完全决定芯片制程，通特定曝光方式提高制程。
实证明，193纳米紫光光源，进65纳米芯片工艺产。
世半导体芯片制造理解，浸式光刻，重曝光方式够取进步话，完全将台东芝二货，改造台产800纳米工艺芯片加工厂，甚至更先进320纳米工艺。
芯片产效率，肯定差很，至少明点，掌握项技术。
且通程，华芯科技积累部分专利，asml设置套专利壁垒。
至套专利什，王岸法评估，按照估计，候，利坚政府应该插吧！
五间，王岸纸写磁悬浮双工台，浸式光刻系统，两未展方向。
次打算，光靠内研究机构力量。
“该寻找外援候！”