GCA投入研EUV技术项目3000万元经费，收购ASML40%股权，笔数目！
GCA账金流剩300万元，公司花钱方。
孙健世互联网少关ASML EUV光刻机文章，者纷纷感叹研产EUV光刻机难难青，被称外星科技水准，迄今止类科技领域达尖端技术，。
打破封锁，投入巨资，举力见果。
世90代末，干式193nm波长光刻机遇65nm制程工艺极限，再往寸步难，何跨入40nm制程工艺？阻挡光刻机等半导体厂商世界性难题，科产业界提各超越193nm波长方案，其包括157nm F2激光，电束投射(EPL)，离投射(IPL)、EUV(13.5nm)X光等。
相言，157nm F2激光技术难度稍低，少公司始注157nm F2激光，其尼康SVG技术路线走远，接近商业化量产两公司。
几，ASML收购SVG，拥157nmF2激光技术，砸数亿元进研，此外ASML尝试EUV光刻机。
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财气粗英特尔始倾向激进EUV(13.5nm)方案，希望彻底解决光刻机波长世界性难题，集全球顶尖科技精英愚公移山，服高科技明克林顿内阁，立EUV LLC（EUV限责任公司）。
EUV LLC由英特尔源部牵头，集摩托罗拉、IBMAMD，及享盛誉三实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室桑迪亚实验室，集数百位世界顶尖科，投资2亿元研经费，理论验证 EUV存技术问题。
英特尔打算邀请光刻机业、二位NikonASML加入EUV LLC，政府担沿光刻机技术落入外公司，反NikonASML加入。
ASML表诚，建立工厂研，此满足本土产需求，另外，保证55%零部件均供应商处采购，并接受定期审查，做项让步，功加入EUV LLC，够享受其基础研究果，Nikon却机加入，失ASML竞争机。
几，终论证EUV性，EUV LLC使命完，公司解散，各员踏独研路。
ASML加入EUV LLC，享受研究果加快其EUV研进度，2005摩尔定律陷入停滞，极紫外光刻技术被认制程突破10nm制程工艺关键，由EUV光刻机几乎逼近物理、材料及精密制造极限，光源功率求极高，透镜反射镜系统极致精密，需真空环境，配套抗蚀剂防护膜良品率高，别本与荷兰，算科技全球，举力独突破项世界尖端技术，痴梦。
由技术难度极高，需巨额研资金，尼康佳选择放弃，彻底沦低端光刻机厂商。
ASML唯候选！
ASML23%股权英特尔、三星台积电53亿欧元研EUV光刻机资金，三客户因此获优先供货权。
ASML财团控股荷兰高科技公司！
1997，英特尔源部牵头立EUV LLC始，孙健重2017，ASML才功量产台EUV光刻机，集全球物理、材料精密制造极限技术果，整整20间！
EUV光刻机研制功难难青山句调侃！
孙健预测再投入1亿元，汤普森团队研究功EUV，EUV光刻机类技术复杂宏伟工程，GCA即使耗费几十亿元研经费，独产功，集全球顶尖物理、材料精密制造等科技果，才组织力。
GCA产高端光刻机，BSEC产低端光刻机，收购GCA，孙健给两公司定位，志转移。
GCA重获新，ASML将失进入EUV LLC机，ASML独研制功EUV光刻机痴梦话，BSEC！
苏联解体，俄罗斯首东欧已经倒向西方阵营，友，其经济科技实力强，今科技经济条件，举力，BSEC研制EUV光刻机，20，果。
重者神仙！
政府高科技公司技术资金支持，全球GCA才研制功EUV光刻机，，耗费研资金拖垮GCA。
GCA终归半导体设备产高科技公司，旦交E，政府安全由收回TIC持GCA股权，除非加入籍，孙健早理准备，，售GTER或IBM，收回几十亿元投资应该问题。
锲约精神公知才相信！
GCA研功EUV光刻机耗越长，BSEC越利，旦浸式光刻机EUV光刻机研制功，BSEC将光刻机业匹黑马！
BSEC才孙健需真正关孩，养孩容易。
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“董长，商务部工朋友确凿消息，今TH关系紧张，商务部口管制委员公司口250nm制程工艺半导体产线给PGCA申请，除非克林顿体授权！”
三，艾德安向孙健汇报，脸遗憾，希望孙健直接找克林顿统。
“艾德安先辛苦，明回。”
孙健早料结果，十分遗憾，GCAPGCA利益，往统府，请求克林顿给GCAPGCA机，今TH关系紧张敏感期，即使功，旦被利，传内互联网，卑躬屈膝，汉奸，奴才……