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二零三章 500nm光刻机研制

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临近尾,孙健处理,终审法院判决长吁短叹,昨魏建电话,8英寸晶圆500nm制程工艺光刻机BSEC研制功!

10月底消息,研工程已经尾声,真正接确凿消息,孙健很高兴乘飞机京城,向全体研员表示祝贺,场宣布公司拿300万元,按照贡献,奖励全体研员。

6英寸晶圆、800nm制程工艺光刻机8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机坎,BSEC投资8亿元,耗费18月!

旦跨,BSE、180nm制程工艺光刻机容易

辉院士领导光刻机光源研究努力,7月14,研制功全球台浸式193nm光刻机试验机,波长达134nm,突破193nm波长极限世界性难题,因系统委托CarlZeiss AG完全知识产权,秘宣,等BSEC光刻机光研究研制系统达,再申请公司明专利。

193nm干式光刻机193nm浸式光刻机,突破193nm波长极限世界性难题,光刻技术。

世90代末,随摩尔定律继续演进,光刻机制程工艺130nm进入90nm,晶圆尺寸8英寸升级12英寸,,半导体产业193nm波长将近20

,干式193nm光刻机极限制程工艺65nm,再往很难实何突破65nm,跨入40nm制程工艺,阻挡半导体厂商拦路虎。

G两光刻机巨头今正研制130nm制程工艺光刻机,90nm、65nm制程工艺光刻机,65nm制程工艺极限!

BSEC光刻机光源Gm ArF准分激光器,掌握其核技术,邓钱富强率领光刻机光源研究技术员丢掉图纸,重新研制遍,BSEC光刻机公司产满足1um制程工艺、800nm制程工艺500nm制程工艺193nm ArF准分激光器,按照双方初签订公司明专利转让协定,准分激光器BSEC光刻机使

19957月,钱富强晋升研究员,担任光刻机光源研究长。

辉院长主持BSEC光刻机研究院全盘工

BSEC产8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机,虽离G制程工艺光刻机,差350nm、250nm180nm三关口,步跨易?

参与其艰难!

BSE制程工艺半导体产线间问题。

19966月始,BSEC投资8亿元8英寸晶圆500nm制程工艺光刻机,18月,由邓辉、欧阳明、陈伟长夏季常等四位院士主持项系统性工程终正果。

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光刻机化研究准备满足500nm制程工艺光刻机磁悬浮式双工台系统,套系统GCA1995BSEC提供公司明专利基础,专利属BSEC。

夏季常院士带领研究科研研制遍,性更加完善!研制遍满足350nm(GCA研功)制程工艺光刻机磁悬浮式双工台系统。

19965月,夏季常院士带领光刻机化研究率先研制功满足250nm制程工艺光刻机磁悬浮式双工台系统。

BSEC光刻机公司满足各制程工艺光刻机磁悬浮式双工台系统,订单产。

磁悬浮式双工台系统全球唯双工台系统,孙健功劳。

讲求效益信奉造买,卡脖

像GCAASML等五光刻机公司选择BSEC磁悬浮式双工台系统,像Nikon等五光刻机公司购买BSEC公司明专利,组织产。

避免浪费宝贵资金,孙健指示,GCA光刻机半导体研究院19966月始,停止研产磁悬浮式双工台系统,原32名研员被BSEC光刻机化研究全部接收,古斯特,直接购买BSEC产相配套磁悬浮式双工台系统,BSEC掐GCA

32名研加入,BSEC光刻机化研究虎添翼,夏季常院士领衔研制满足180nm光刻机磁悬浮式双工台系统已经量产。

199612月,欧阳明院士带领硅片制造研究功具主知识产权8英寸晶圆,项伟创举。

陈伟长院士带领光刻机光研究功满足500nm光刻机系统。

BSEC系统合,光刻机公司二台500nm制程工艺光刻机研试验机。

8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机项复杂系统性工程,光源系统、光系统双工台系统缺

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12月13,韩元汇率突降至1737.60:1,韩元危机冲击量投资本金融业。

11月15,韩金融风暴,17,韩元汇率跌至创纪录1008:1;20,韩元汇率跌至1139:1;21,韩政府际货币基金组织求援,暂控制危机。

1997,东京协社、东京安全信社、山证券北海拓殖银系列银证券公司相继破产。

本金融机构倒闭神话破灭

东南亚金融风暴演变亚洲金融危机。

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12月15

韩元汇率幅贬值消息周末酵。

指数10599.4点盘,低15.3点,头主力击,盘迅速封补跳空缺口,10665.9点,空头机构力,获利盘解套盘蜂拥盘接连被击破10500点、10400点二关口,10346.2点,尾盘头主力再度10435.2点收盘,全跌179.5点,跌幅1.68%。

者其书:神器新三终结者
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