世虽Nikon凭借技术实力资金实力先研制功F2准分激光器浸式光刻技术，产功浸式光刻机，半导体产业更新换代迅速，导致Nikon光刻机靠性始终落ASML，此，全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给全球光刻机新霸主ASML。
世由ASML独EUV光源够研制，内光刻机光源产公司技术竞争力，首西方并限制ArF准分激光器ArFi准分激光器口。
BSEC直接进口市场价45五万元台GCA牌ArF准分激光器，购买蔡司公司产光系统，进口6英寸晶圆，加独创光刻机磁悬浮式双工台系统，产1um制程工艺光刻机，虽6英寸晶圆、1um制程工艺半导体产线西方淘汰产线，内市场。
BSEC活！
理很，实很骨感，BSEC制造1um制程工艺光刻机，代表产6英寸晶圆、1um制程工艺半导体产线！
内缺乏半导体产线设备全产业链，今压BSEC肩。
BSEC产1um制程工艺光刻机晶圆公司！
谁投资谁倒霉，“造买、买租”主原因！
193nm波长世界性光难题将困惑光刻机业八，给BSEC长机，重者力。
BSEC突破点赶ASML率先研制功世界台193nm波长浸式光刻机！
孙健运围绕突破点！
EUV光刻机太复杂，即使投入巨资研功EUV光源，相关光系统、光刻胶、掩膜版等设备材料求太苛刻，需十万零件，据世五千产商EUV光刻机供货，重者敢付诸实践。
“孙董长，BSEC否转让磁悬浮式双工台系统专利给Nikon？”
拥BSEC磁悬浮式双工台系统专利终身授权，GCA光刻机光精密设备研究升级改造，研制功适应800nm制程工艺磁悬浮式双工台系统（售转让专利技术），GCA光刻机制程工艺达500nm，达Nikon光刻机制程工艺，购买休斯电材料公司（AEMC）产8英寸晶圆，提高35%左右产。
磁悬浮式双工台系统蔡司公司光系统，Gikon重新争夺高端光刻机市场份额资本。
提BSE。
“艾德安经理，BSEC光刻机磁悬浮式双工台系统拿本欧签公司明专利，等18月左右。”
“孙董长，放！”
艾德安顿轻松截，孙董长挺幽默。
“汤普森院长，公司今经费紧张，光源研究继续研制ArF准分激光器？像Nikon始研制F2准分激光器？”
“孙董长，认光源研究应该另辟蹊径，始研制波长十几纳米极紫外光？”
GCA八五研制功ArF准分激光器，光刻机光源领域全球领先，透镜反射镜构光系统方逊Nikon半导体设备公司断提升光系统，加光刻机光源被卡193nm波长，遭遇全球芯片产衰退期，光刻机霸主位逐渐被光系统断提升Nikon半导体设备公司抢走，亏损，公司裁，技术员流失，沦落两次被贱卖步。
“汤普森院长预测光源研究，长间内研制功极紫外光？”
孙健喜，投资研制极紫外光，担投资太，即使研制功，配套光系统相适应光刻胶、掩膜版等，GCA产EUV光刻机！
世，举力研制13.5nmEUV光源结果，世界ASML控股Cymer才产EUV光源，见难度！
光刻机光源方，光刻机光源秀Cymer今GCA。
Cymer世光刻机光源霸主，除被ASML收购断投入巨资研外，ASML将收购GCA光刻机光源研究并入Cymer光刻机光源研究院，强强联合。
世，极紫外光技术研功，知汤普森院长其挥？
GCA光刻机半导体研究院研究重应该放技术领先ArF准分激光器KrF光刻胶研制。
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GCA与IBMSematech员，赢者通吃，避免重复研究，担IBM卡B，IBM垄断KrF光刻胶十几，知什原因？世信越化等本公司光刻胶枝独秀，卡韩脖！
“孙董长，保障光源研究研经费，保证光源研究三内研制功极紫外光。”
“汤普森院长，光源研究需少研经费？”
汤普森院长轻，敢打包票，明绝握，重者怕花钱！旦攻克EUV，否产EUV光刻机？GCA光刻机业领导者！
“董长，需三千万元元研经费，购买新实验机器材料。”
艾德安布罗迪等众喜忧参半，公司今金流剩三百万元，花钱方。
“汤普森院长，答应，光源研究三内研究功极紫外光技术，承诺奖励光刻机光源研究研团队五百万元，其百万元奖励汤普森院长。”
代三千万元相二十三十亿元，收购40%ASML股权，笔数目！
即使花三千万元，三内研功，孙健相信GCA光刻机光源技术制程工艺突飞勐进。
众脸惊讶。
“谢董长！”
汤普森愣。
先入主，重者二准备，希望汤普森院长率领GCA光刻机光源研究，率先研制功EUV，重新光刻机霸主，GCA收购CymerAEMC，强强联合，收购SVGUltratech，唯光刻机公司，与Nikon竞争，政府支持。