热屏技术听门高新技术，实际，仅单晶炉内部增加块挡板，炉内热量向流失程，靠块挡板将热量反射回炉内。
类比保温瓶——更保温效果，避免瓶内热量流失，需更密封性，比，瓶口加更厚硅胶……虽，单晶炉跟保温杯相差十万八千，，归根结底，热屏技术项增强炉内保温性技术。
历史，项技术应初期，英特尔等等领先半导体公司悄采热屏技术，却秘宣，悄悄利技术降低本增加产。等越越厂商，照宣采技术，，英特尔等等公司才注册热屏专利。
项技术注册专利，使热屏技术扩散突加快，因，更厂商知概念，先投入资本研相关技术。
半导体业虽被误导，2001，北京色金属研究院研究员屠海令、周旗钢率先团队热屏品参照提功研产固定式热屏。
实际，英特尔等等公司虽注册热屏技术初始专利，丝毫阻止竞争纷纷采类似技术。
因，门技术实际仅创，别，创，等创被业界知，仅需知热屏名词，研类似技术，绕已专利，需费点。
且，即使百分百抄袭，很难被。毕竟，技术厂商产技术，做保密工，阻止外界士参取证，，谁知其内部产设备，抄袭别技术专利。
相言，专利保护法更容易受保护消费产品相关专利，侵犯专利友商产品除非市，旦市，其专利侵权部分肯定被。
项技术非常简单，义却非凡。仅耗例，6英寸装料量60公斤单晶炉例平均耗120KWH，采原始固定式热屏技术，单晶炉耗轻易降低90KWH。且，采热屏单晶炉，显著提升单晶长速度，单晶直径尺寸良品率幅度提升。
固定式热屏技术基础，更先进移热屏，该技术直接耗进步降低，原本耗120KWH单晶炉，耗进步降低60KWH！
世半导体业爆产，热屏技术做突贡献。世电产品消费者，实际，单晶炉热屏技术受益者。
……
19867月，蒙欣率领单晶炉热屏技术，迅速理论变实际产品。
项果本质并太难，本很高。本概5000块钱产单晶炉，增加固定组合件。致，仅需1万元本将台单晶炉改造固定热屏新式单晶炉。
目进口单晶炉，本低1万元台，比产单晶炉更贵况，性远远新式带热屏单晶炉。
万元台设备，实际顶3~5次报废，需更换新单晶炉。，外寿命更长单晶炉，十次左右，却禁止口。几十单晶炉寿命则轻易达百炉甚至更长久寿命。，配合热屏技术话，晶圆产本效率，将达80代半导体厂商难象程度。
，使寿命更长单晶炉，则涉及更复杂材料，并简单弄份设计图纸搞。
“技术很厉害？”林棋毕竟理工狗，知CPU、显卡、内存、硬盘、显示板等等普通消费者见摸东西。
复杂光刻机，由芯片加工需光刻机，光刻机晶圆加工工业，昂贵设备。集电路集少晶体管，主取决光刻机精度。，即使白，知光刻机非常关键！
相高光刻机言，单晶炉显很土鳖，很少外关注单晶炉技术展。
“厉害！决定芯片性产，仅仅光刻机，晶圆产质量，非常关键重技术。”蒙欣微笑，“仅凭项技术，至少给芯片节省30%本！品质更高晶圆，让芯片加工良品率更高、性更！其实短期内，光刻机技术取突破，仅凭单晶炉技术突破，足让芯片产、性、本等等指标，获幅度提升！”
“厉害！”林棋仅感觉惊讶。
“！换做听，头疼医头，脚痛医脚，即使帮改进光刻机技术，保守估计需间，才效。”蒙欣，“且，给研2~1.5微米光刻机，属严重浪费宝贵科研资源。跟际厂商模仿，团队。团队，直接1微米步，研投影式光刻机！参观新创业半导体骊山半导体工厂，接近式光刻机，70代技术，主流。技术升级潜力限，，很快被投影曝光式光刻机替代！”
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林棋点点头，知技术蒙欣比强数倍。
未技术资料参考蒙欣，世界厉害技术牛。
业内士刚初步法，已经清晰解未技术展趋势，很机密技术，未已经公资料。
……
7月份，林棋强推广，新创业半导体公司始正式规模推广热屏单晶炉。
虽，始技术员比较固执，觉贸采听技术点冒险。
仅仅周，反声彻底消失。
谁反，产线线技术员敲爆狗头！
因，热屏技术处，立竿见影！
采热屏技术单晶炉，仅仅节约25%电费，且，单晶棒直径、长度远远超预期。原本实验4英寸单晶炉，单晶炉产晶圆直径应该101.6毫米，实际，产晶圆直径居达117毫米，虽达6英寸，算4.5英寸级！
晶圆直接更，仅仅原材料产增加问题，更关键，相4英寸晶圆言，更直径晶圆加工芯片良品率更高。
貌似，目际市场6英寸单晶炉禁止口，原本4英寸单晶炉需进口。，新创业电异军突，促进产半导体产业展，像单晶炉设备属几次更换消耗品，产更便宜。因新创业电订单，，内足够力4英寸单晶炉技术搞白菜价。
6英寸单晶炉，目技术存定难度。至少几功夫，才做产化。……热屏技术让4英寸单晶炉居升级4.5英寸单晶炉。技术员感觉非常激，因，原本6英寸单晶炉技术门槛，已经因热屏技术被轻易捅破！
量产6英寸晶圆，仅仅民电产品受益，且航、军工、科研等等方，因更高品质晶圆材料受益！