热屏技术听门高新技术,实际,仅单晶炉内部增加块挡板,炉内热量向流失程,靠块挡板将热量反射回炉内。
类比保温瓶——更保温效果,避免瓶内热量流失,需更密封性,比,瓶口加更厚硅胶……虽,单晶炉跟保温杯相差十万八千,,归根结底,热屏技术项增强炉内保温性技术。
历史,项技术应初期,英特尔等等领先半导体公司悄采热屏技术,却秘宣,悄悄利技术降低本增加产。等越越厂商,照宣采技术,,英特尔等等公司才注册热屏专利。
项技术注册专利,使热屏技术扩散突加快,因,更厂商知概念,先投入资本研相关技术。
半导体业虽被误导,2001,北京色金属研究院研究员屠海令、周旗钢率先团队热屏品参照提功研产固定式热屏。
实际,英特尔等等公司虽注册热屏技术初始专利,丝毫阻止竞争纷纷采类似技术。
因,门技术实际仅创,别,创,等创被业界知,仅需知热屏名词,研类似技术,绕已专利,需费点。
且,即使百分百抄袭,很难被。毕竟,技术厂商产技术,做保密工,阻止外界士参取证,,谁知其内部产设备,抄袭别技术专利。
相言,专利保护法更容易受保护消费产品相关专利,侵犯专利友商产品除非市,旦市,其专利侵权部分肯定被。
项技术非常简单,义却非凡。仅耗例,6英寸装料量60公斤单晶炉例平均耗120KWH,采原始固定式热屏技术,单晶炉耗轻易降低90KWH。且,采热屏单晶炉,显著提升单晶长速度,单晶直径尺寸良品率幅度提升。
固定式热屏技术基础,更先进移热屏,该技术直接耗进步降低,原本耗120KWH单晶炉,耗进步降低60KWH!
世半导体业爆产,热屏技术做突贡献。世电产品消费者,实际,单晶炉热屏技术受益者。
……
19867月,蒙欣率领单晶炉热屏技术,迅速理论变实际产品。
项果本质并太难,本很高。本概5000块钱产单晶炉,增加固定组合件。致,仅需1万元本将台单晶炉改造固定热屏新式单晶炉。
目进口单晶炉,本低1万元台,比产单晶炉更贵况,性远远新式带热屏单晶炉。
万元台设备,实际顶3~5次报废,需更换新单晶炉。,外寿命更长单晶炉,十次左右,却禁止口。几十单晶炉寿命则轻易达百炉甚至更长久寿命。,配合热屏技术话,晶圆产本效率,将达80代半导体厂商难象程度。
,使寿命更长单晶炉,则涉及更复杂材料,并简单弄份设计图纸搞。
“技术很厉害?”林棋毕竟理工狗,知CPU、显卡、内存、硬盘、显示板等等普通消费者见摸东西。
复杂光刻机,由芯片加工需光刻机,光刻机晶圆加工工业,昂贵设备。集电路集少晶体管,主取决光刻机精度。,即使白,知光刻机非常关键!
相高光刻机言,单晶炉显很土鳖,很少外关注单晶炉技术展。
“厉害!决定芯片性产,仅仅光刻机,晶圆产质量,非常关键重技术。”蒙欣微笑,“仅凭项技术,至少给芯片节省30%本!品质更高晶圆,让芯片加工良品率更高、性更!其实短期内,光刻机技术取突破,仅凭单晶炉技术突破,足让芯片产、性、本等等指标,获幅度提升!”
“厉害!”林棋仅感觉惊讶。
“!换做听,头疼医头,脚痛医脚,即使帮改进光刻机技术,保守估计需间,才效。”蒙欣,“且,给研2~1.5微米光刻机,属严重浪费宝贵科研资源。跟际厂商模仿,团队。团队,直接1微米步,研投影式光刻机!参观新创业半导体骊山半导体工厂,接近式光刻机,70代技术,主流。技术升级潜力限,,很快被投影曝光式光刻机替代!”
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林棋点点头,知技术蒙欣比强数倍。
未技术资料参考蒙欣,世界厉害技术牛。
业内士刚初步法,已经清晰解未技术展趋势,很机密技术,未已经公资料。
……
7月份,林棋强推广,新创业半导体公司始正式规模推广热屏单晶炉。
虽,始技术员比较固执,觉贸采听技术点冒险。
仅仅周,反声彻底消失。
谁反,产线线技术员敲爆狗头!
因,热屏技术处,立竿见影!
采热屏技术单晶炉,仅仅节约25%电费,且,单晶棒直径、长度远远超预期。原本实验4英寸单晶炉,单晶炉产晶圆直径应该101.6毫米,实际,产晶圆直径居达117毫米,虽达6英寸,算4.5英寸级!
晶圆直接更,仅仅原材料产增加问题,更关键,相4英寸晶圆言,更直径晶圆加工芯片良品率更高。
貌似,目际市场6英寸单晶炉禁止口,原本4英寸单晶炉需进口。,新创业电异军突,促进产半导体产业展,像单晶炉设备属几次更换消耗品,产更便宜。因新创业电订单,,内足够力4英寸单晶炉技术搞白菜价。
6英寸单晶炉,目技术存定难度。至少几功夫,才做产化。……热屏技术让4英寸单晶炉居升级4.5英寸单晶炉。技术员感觉非常激,因,原本6英寸单晶炉技术门槛,已经因热屏技术被轻易捅破!
量产6英寸晶圆,仅仅民电产品受益,且航、军工、科研等等方,因更高品质晶圆材料受益!