期，机业竞争正迅速形。
市场益激烈。
翻盖机被制造，滑盖机始，让机厂商，根本暇分研究触摸屏领域。
再加，客户，更机否结实耐、电池续航间长长，等等“质量”问题，谁浪费间，金钱，考虑制造市场机。
陈伟东提设，索尼公司并，“巨资”份，很乐陪疯。
因仅累积经验，加快技术革新。
论怎，双赢。
离索尼公司，陈伟东马打电话联系陈杰，跟明期需准备工。
包括索尼公司合细节。
跨越少十技术壁垒，件容易。
光机操系统，般难。
虽穷计算机公司，千名优秀程序员，擅长应软件，何设计款机操系统，完全抓瞎。
，计算机部门经研究讨论，决定模彷始。
否则，光摸索，花费量间。
山寨，永远追方技术脚步快方法。
找塞班公司联名新款机，准备先剖析塞班系统内核，尝试设计款简单操系统，再加改进....
候，由穷公司精密研究关系缓，少研究员陆续回实验室。
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乐嘴合拢，交口称赞，陈杰度。
，头钻进实验室，继续完研究。
按理，“外员”，使公司仪器，收费，陈杰通赵工解，精密研究简直穷叮响，经费才七八百万。
让实思口钱。
克鲁格教授，近月，陈杰等进次讨论，终确定研究方向。
首目标，设计款芯片图纸，难度非常，需很配合。
芯片，集合全类智慧，其实连利坚，办法完全掌握环节。
枚机芯片积基本10平方毫米左右，拇指甲盖差。
且CPU结构，其诸GPU，NPU，ISP，DAC解码芯片，基带等等结构全部位列其。
设计师几十亿晶体管，排列指甲般区域内，并让它准确误进工。
精准度比笔，凋刻整座城市。
款芯片图纸阶段实物阶段，概需经2步骤，分别芯片设计芯片制造。
打造款芯片像建造栋楼，芯片设计像给楼设计建筑图纸。
利坚芯片设计领域，占据绝优势。
半导体产业步早，世界块芯片制造。
芯片半导体产业产品，半导体做芯片材料。
业，通俗点，叫芯片业，术点叫半导体业，实际相土豆马铃薯区别。
仅仅设计芯片，远远够，需光刻机芯片进凋刻。
光刻机相凋刻“笔”。
世界，3力制造光刻机，其制造高端光刻机，岛荷兰。
岛土积虽，却掌握强科技实力工业基础。
八十代，岛光刻机全世界先进。
候，尼康、佳公司产光刻机，曾度占领业50%份额，包括IBM、英特尔、德州仪器内客户，争相抢购光刻机。
，由两公司失误，导致岛将光刻机巨头皇冠，拱让给荷兰ASML。
ASML2000左右始研EUV光刻机，并决定规模量产。
彼，岛光刻机企业却认系统太复杂，并未选择跟进。
候ASML公司，岛制霸光刻机市场，决定博，弯超车，试试台积电，林本坚提“浸入式光刻机技术”。
技术，听觉很高端，实际非常简单技术，简单陈伟东次听候，听错。
件印象深刻。
浸入式光刻技术，光刻镜头，与待刻硅晶片间，充满液体，幅度提高光刻机加工精度！
陈伟东将项“技术”，告诉克鲁格教授。
近，实验将台树屋研究带回光刻机，精度百九十纳米光刻机，功刻制百零五纳米密集图形！
结果让欣喜若狂！
几近失态！
通常光刻机，光刻镜头与硅晶圆间，任何遮挡。
，另角度，它间，存空气。
浸入式思路，液体替换掉间空气。
由液体具折光率，紫外线通液体介质，它光源波长缩短，精微刻制。
本觉老旧光刻机，突摇身变，百零五纳米光刻机，远远超光刻技术！
其实浸入式光刻技术，并算ASML首创。
早80代初，科采浸入技术，功提高光刻效果。
，项技术，它液体很容易污染光镜片。
期主流光刻技术研究，将其渡段，并足够重视。
旦代光刻技术熟，便毫犹豫抛弃浸入式光刻。