光电议室。
三青再次聚集。
虽青涩容，卖真实龄，几位般轻。
顾明，右相继退童军，叶静，孩，童军实际领导。正段经历，未展，打坚实基础。
严亮更精力放TFT-LCD技术演化，今丝精英气质。
系列储备技术，慢慢形，五步光刻技术，品。IPS，FFS等批专利技术，《全彩科技》提供应未挑战底气。
————————
“《号工程》启候。”
次零号工程，遭致反，才导致《全彩科技》诞。否则白公司名字，应改《零点科技》才。
“其实，知，准备晶圆项目？算候啊！”
LCD驱芯片，什保密。集电路专业帮，已经忙活半。仅仅忙，更重烧钱。
EDA软件，套二十几万元。虽教育机构购买，定优惠，十几万元逃掉。
规模集电路设计，肯定由完。协工，需套软件。项目什果，近千万民币消失踪影。
钱，白花吧。
————————
“，号工程怎搞法。”
两名乡，随公司长，视角断提高。很问题观察点，观察角度，与普通明显。站巨肩膀，指思。
“认，步步。晶圆产业积累。目务急，追平内先进技术，2微米技术。”
【推荐，野果阅读追书真，载 www.yeguoyuedu.com 快试试吧。】
叶静首先给建议。
1986，电工业部提“531”展战略，即普及推广5微米技术，3微米技术，攻关1微米技术。
间已经整整6，除微米目标达外，其它两已经差完。1.5微米分步投影光刻机，1985已经研制功。续908工程，提进军1微米基础。
间点，内晶圆厂，已经少采4-5英寸晶圆，2-3微米技术。
辈血白费，它给光电带足够高.asxs.。
，几，际半导体工艺，进步停止。新建几座晶圆厂，已经进步0.5微米。
————————
“观点，，项目目什？果终目达，花钱，建条晶圆厂，什义呢？
，先进，直接0.35微米！”
随断功，严亮野断滋长。尤其掌握几储备技术，让更进取。
眼，际谓电巨头，回。除点臭钱外，什？冢枯骨已。
LED业，光电.asxs.很高，世界。
TFT-LCD虽差点，至少波。果晶圆变跟别屁股转，损光辉形象嘛！
“0.35微米？话脑?技术源哪？知建条0.35微米晶圆厂少钱吗？”
随晶圆工艺进程逐步提高，晶圆厂造价逐步提高。90820亿，909则升100亿主原因。
两者间核区别与，908工艺0.9微米，909则0.5微米。
0.35微米晶圆厂造价，际，已经升10亿元级别。（0.35微米，际批量普及，95，Pentium Pro世界批采此工艺（P854），批量产芯片。）
，其区别，例产量，晶圆尺寸等。
果晶圆工艺容易话，破光刻机必牵。
两很快吵。
————————
“永兴，啥见？俩叫，吵架吧。”
“，。”
“怎讲？”
“晶圆厂，考虑实况，空喊口号。毕竟积累。
，目标实，钱白花！果2微米晶圆厂，根本义。”
“咦？啥思？两话让全！”
两位老乡，觉耳朵问题。
“次准备，2微米半导体设备及工艺，产1微米芯片！”
...
“怎？”
“知脑袋肯定东西。”
两性格，沉思片刻，完全感叹。
“玩笑吧。果真技术，什全球企业每投入金钱，改进工艺流程，提高产设备精度？908工程干什？”
叶静性比较保守，更风险。
“技术。什工程被叫做号工程缘故。它保密级别甚至高液晶ODF工艺。”
————————
“吧，吧。准备。”
已经次，永兴召集两商量高度机密性科技信息。
经MEMS，LED，及LCD断洗礼，两晶圆工艺已经陌。
世，提半导体设备，被津津乐，光刻机。普遍认，光刻机半导体工艺落唯瓶颈。
句话，。
，因，半导体工艺领域，被甩远代表设备光刻机。
其设备，例蚀刻设备等，它与际先进水平，即使差距，差距，甚至某设备，产设备已经始反攻际市场。
光刻机决定半导体制程况，仅仅2005。球知，ASML王山战。
ASML浸入式光刻机，打场翻身仗，举本几竞争掀翻，奠定光刻机市场垄断位。
————————
实际，2005，决定半导体芯片制程几核技术，光刻机。因此，光波波长，撞极限（193 nm）.
已经1.5微米光刻机，其辅助工艺，达高精度。
几十，光刻设备求主基摩尔定律，通减波长增数值孔径（NA）获更高分辨率。
激光波长几，激光波长减少几次，继。
2004始，光刻机始使193nm波长DUV激光，谁，光刻光源被卡193nm法进步长达十几。
哪怕采沉浸式光刻机，仅仅使晶圆工艺功突破几节点。
段间，半导体工艺工艺演进路线，再次遇类似问题。世14nm，10nm，7nm技术突破。通升级光刻机实。
光刻机法升级况，突破障碍，始寻找别突围方向。
————————
随科脑洞，效方法，真被找！
更喜，方法思路非常简单，且特别适合代。
完全改变设备技术水平况，提高晶圆制程！
方法被广泛宣传，因晶圆厂使。技术，失神秘性趣味性。
灯黑，指况。