提材料，提奠定本精密加工及精密芯片业统治位另基础产业，光刻机。
光刻机产规模集电路核设备，制造维护需高度光电工业基础，世界少数厂掌握。因此光刻机价格昂贵，通常3，000至5，0000万元。
光刻机/紫外曝光机（maskaligner)名：掩模准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常光刻机掩膜准光刻，叫maskalignmentsystem.
般光刻工艺经历硅片表清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、准曝光、烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
photolithography（光刻）思光制图形（工艺）。
硅片表匀胶，将掩模版图形转移光刻胶程将器件或电路结构临“复制”硅片程。
高端投影式光刻机分步进投影扫描投影光刻机两，分辨率通常十几纳米至几微米间，高端光刻机号称世界精密仪器，世界已7000万金光刻机。高端光刻机堪称代光工业花，其制造难度，全世界少数几公司够制造。外品牌主荷兰a**l（镜头德），本尼康（intel曾经购买nikon高端光刻机）本佳三品牌主。
光刻机重曝光系统、工件台准系统。
曝光系统主功平滑衍射效应、实均匀照明、滤光冷光处理、实强光照明光强调节等。
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工件台由掩模片整体运台（xy）、掩模片相运台（xy）、转台、片调平机构、片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组。
其，片调平机构包括球座半球。调平程首先球座半球通压力空气，再通调焦轮，使球座、半球、片向运，使片与掩模相靠找平片，二位三通电磁阀将球座半球切换真空进锁紧保持调平状态。
片调焦机构由调焦轮、杠杆机构升直线导轨等组，调平升程初步调焦，调平完锁紧球气浮，片掩模间产定间隙，因此必须进微调焦。另方，调平完进准，必须分离定准间隙，需进微调焦。
抽拉掩模台主快速片，由燕尾导轨、定位挡块锁紧轮组。承片台掩模夹根据片掩模尺寸进设计。
工件台切操需准系统辅助，进工调节。
制造高精度准系统需具近乎完精密机械工艺，准系统另外技术难题准显微镜。增强显微镜视场，许高端光刻机，采led照明。
准系统共两套，具备调焦功。主由双目双视场准显微镜主体、目镜物镜各1（光刻机通常提供放倍率目镜物镜供户组合使）。
杨乐sony公司ccd感光元件感兴趣、甚至惜丢脸垂涎三尺，将ccd应准系统，世应广泛ccd准系统将掩模片准标记放并像监视器。
错，杨乐借此进入光刻机市场。
进入真正高科技业，除本尼康佳入外，杨乐暂别法，因业系统工程，高端光刻机集精密光、机械、控制、材料等先进科技工程技术体，集电路装备技术难度高、价格昂贵关键设备，被称类技术展制高点制造工业“皇冠明珠”。
光刻机水平决定集电路展水平，它ic制造设备价值链占30%—40%。光刻机主难点聚焦准分光源、光系统超精密运高速工台。犹世界两片相叶，，两台模光刻机。每台光刻机，独二“光刻指纹”。杨乐终目产完全属光刻机。
台光刻机万零部件电脑程序控制进复杂协调联，其运精准程度误差超根头丝千分，异头“绣花”！打通俗比喻，坐架超音速飞飞机，拿线头穿进另架飞飞机针孔。
光刻机像，系统体各器官。首先，体框架，每“器官”尺寸必须系统设计，否则五花八门，，合规范。其次，即使各单位制造“器官”符合指标求，装系统常常问题，存很复杂因素。其集经验通量工程演练才形。经常烧病，先体质原因，光刻机性指标；因素，靠“医”集部门诊断，技术员仅“验血检查”，告诉供应商真正病根。
比，今气温度变，空气压力变，设备焦准确。需研部门做仿真模拟，研究空气哪部件影响，或许其遇问题，百思其解，往往需花费数间才解决。任何集创新，程研部门经常遇死胡，绝反击，死回，除往砸资金外，别法！
光刻机像台精密复杂特殊照相机，芯片制造“定义图形”重机器。
每颗芯片诞初，经光刻技术锻造。光刻机像光刃铸剑高，将硅片粒顽石变智慧脑，闪间，母版复杂电路设计图形即转化硅片细微繁密沟壑纹理。谁掌握利刃，拥集电路产业展水平技术掌控权。各达政府直相关战略产业持续投入，争取战略竞争优势，此领域，荷兰、、本早已虎踞龙盘。
世尼康公司创建1917，由本领先3光仪器制造部门合并组，职员6900余。60代期涉足半导体制造领域，1980介入stepper（步进曝光机）制造领域，至今已向世界市场提供6200余台stepper，1996stepper销售额(20亿元)便超公司销售额(约35亿元)半，达60%。2000尼康公司stepper全球销售额达24.3亿元，占全球光刻设备市场41%份额。1985，nikon公司stepper全球销量便取代gca公司(1978～1984)霸主位(nikon公司145台，gca公司115台)，其产量逐升，1996财政度(19963月～19973月)nikon公司stepper销售量创历史高记录，达900余台，占世界stepper市场销售量(1530台)3／5，19852001，尼康公司已连续独霸世界stepper市场首达16久。
世属本佳公司创建1937，其身“精机光研究”，全球著名跨公司，1970始涉足半导体制造领域，更早尼康1978推激光准光刻机“pla－500fa”，1979推台1:1反射投影光刻机“mpa－500fa”，1984推台商品化步进重复缩投影光刻机“fpa－1500fa”，1990推台i线光刻设备“fpa－2000ii”，整80代canon公司产1へ1反射投影光刻机主导光刻设备。截止1991，其向世界市场提供pla300～pla600fa系列光刻设备3000台。进入90代，该公司光刻设备转向stepper主。1996市场销售额达12.12亿元，世界十半导体设备公司排序五，stepper销售市场排名二(尼康、佳、a**l)。其stepper市场主集本欧洲，2000全球市场销量260台，2001约400台。
，花百红，千。
世a**l公司2011已经垄断高端芯片曝光机市场，控制低端芯片曝光机市场80%份额，拥整芯片曝光机市场105%利润（因尼康尼亏损），此，a**l垄断格局更加明显，佳识务，2008始逐步退芯片曝光机业务，停止亏损，专注打印机业务。本财团三菱集团甘失领域产，竭尽全力支撑尼康芯片曝光机，亏损愿退，结果越陷越深。