“怎，表，难碰什难题。“凌世哲三位表感非常奇怪，至吧，技术全跟，按部班搞？
徐宏博：“凌少，cmos工艺设计已经完60%，关键被电感耦合等离体刻蚀机问题遇障碍，解决问题非花10间。”
凌世哲明白，徐宏博电感耦合等离体刻蚀机，简称icp，芯片光刻工艺必少关键设备。
设备历史诞90代初期，icp诞迅速普及，半导体芯片工艺产直使，知穿越直。
它高密度等离体刻蚀设备，特具低压，简单气体混合；改进重复性，关键它集电路刻蚀集电路集度提高任何限，管集电路微米级，纳米级，哪怕埃米级够胜任。其刻蚀机，集度限求，集度达限必须更换，icp刻蚀机未展方向。
正式因它优，凌世哲初交给王海华资料才带icp刻蚀机资料，虽资料理论方向关键技术，icp刻蚀机技术太复杂，凭目条件它给产，已经超目技术力范围。
历史91才产世界台icp，经近10间才展熟。
才71，显达制备条件。
凌世哲闭眼睛，问：“除icp刻蚀机外，其障碍？”
“问题卡刻蚀机，刻蚀机问题解决，整工艺算功告。”王海华。
“错嘛，进度很快嘛，连分布式投影光刻机技术问题解决？”凌世哲分布式投影光刻机光刻机，它硅晶圆进刻蚀，曝光。芯片产程，硅晶圆表涂抹层抗蚀剂，带芳香味具黏度及颜色液体，光照改变抗蚀力高分化合物，俗称光刻胶。
光刻胶含感光剂，它涂抹晶圆片烘干，交给光刻机进投影曝光，跟摄影照相。
光刻机早使接触式光刻机，展接近式光刻机，它由接触式光刻机改进。
凌世哲加拿工厂使光刻机属接触式光刻机，它由本尼康公司产，尼康世界明光刻机公司。凌世哲搞光刻机才，跳接触式、接近式光刻机范畴，直接进步分布式光刻机。
它属投影式曝光技术范畴，每步投影曝光场，曝光完步进另位置进曝光，依次完整晶圆片曝光。光刻机比两光刻机先进，使分布式光刻机，产芯片集度比两光刻机高很。
“凌，分布式光刻机，已经完百分六十设计，全部完设计等段间，机器虽相复杂，信够今底完全部设计，明二三月份制造台机。关键被卡icp刻蚀机技术，次凌什解决办法。”王海华思，本工艺设计委托给，技术，需按部班，两校召集全部精干力量完，找凌世哲解决办法，三感非常脸红。
凌世哲却怪思，icp刻蚀机被称高等离刻蚀机，技术极端复杂，且变量，香港，哪怕拿，凭目技术条件搞，哪怕10搞，比历史整整提10，够做步已经很容易。
cmos工艺设计已经进差完，卡刻蚀机，迟迟够完，难真等10？凌世哲否定等10法，等什办法迅速攻克它呢？徐宏博已经很清楚，技术够解决，科技术条件达它求，够等技术条件达求才完，急急。世，科技展达极高程度，代科技比世，太落。
果等待，办法，重新找复杂刻蚀机暂替代它，等icp刻蚀机完，它换回。间凌世哲找替换刻蚀机呢？
半凌世哲办法，抬头三位老教授直，间思，：“思三位教授，走神，直刻蚀机复杂，够先暂，等icp技术熟，使它。”
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“，，完凌少设计任务，打扰凌少，思才。”三位老先急忙，徐宏博客套两句，确定问：“刚才听凌少思，难几套其光刻机技术解决方案吗？”
凌世哲识头，根本认识妥。
王海华dr.全呆，几套光刻机技术方案，**吗？光电耦合等离体光刻机已经让伤透脑筋，几套其光刻机技术解决方案，活！三感觉几十活狗身，，比死，货比货扔。
凌世哲三望，眼充满幽怨眼神，反应，刚才表打击，已至此什，，：“吧三位教授，什办法，给几间吗？”
三互相，头，dr.：“凌少，今目已经完，改告辞，再见。”
三站，凌世哲楼送公司门口，等三车离，凌世哲才转身。